Напольная система Melytec EBL-100 для прямой электронно-лучевой литографии

Напольная система Melytec EBL-100 представляет собой высокопроизводительное высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии (EBL).

Ключевые особенности:

• термополевой источник электронов высокой яркости типа Шоттки;
• ускоряющее напряжение 100 кВ;
• частота сканирования: 100 МГц;
• лазерная интерферометрическая система измерения расстояния;
• система лазерной автофокусировки;
• 10-слотовая кассета для работы с 6-дюймовыми пластинами (опционально 8");
• интуитивно понятное и простое в использовании интерактивное программное обеспечение.

Основные преимущества:

• обеспечивает сверхвысокую скорость сканирования до 100 МГц;
• точность экспонирования как простых геометрических структур, так и сложных, произвольных шаблонов;
• максимальное рабочее поле: 1000 мкм х 1000 мкм;
• диапазон перемещения стола: 190 мм х 170 мм;
• функция пользовательского формирования структур на основе оптической регистрации изображений.