Приставка электронной литографии для СЭМ Melytec EBL-30

Система генерации шаблонов Melytec EBL-30 представляет собой высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии, специально разработанное для интеграции со сканирующим электронным микроскопом (СЭМ). Она сочетает в себе передовое аппаратное и программное обеспечение, позволяющее осуществлять полнофункциональное формирование шаблонов на нанометровом уровне. Система состоит из программного обеспечения для генерации шаблонов EBL-Layout и аппаратного генератора шаблонов на базе FPGA. Работая в тесной координации, они образуют полный замкнутый цикл от проектирования шаблона до экспонирования.

Основные преимущества:

• обеспечивает сверхвысокую скорость сканирования до 50 МГц с минимальным шагом времени задержки всего 1 нс;
• точность экспонирования как простых геометрических структур, так и сложных, произвольных шаблонов;
• функция пользовательского формирования структур на основе оптической регистрации изображений.